 |
| |
|
|
Wytwarzanie masek |  |
- Projektowanie oraz współpraca z klientami przy wykonywaniu projektów średnio skomplikowanych masek przyrządów półprzewodnikowych oraz dla celów mikromechaniki.
- Wykonywanie masek chromowych oraz fotograficznych dla technologii półprzewodnikowych oraz innych aplikacji wymagających dużej precyzji i wysokiej rozdzielczości wykonania wzoru.
- Wykonujemy maski o wymiarach maksymalnych 8x8 cali na standardowych płytach szklanych pokrytych metalicznym chromem (standardowo wykonujemy maski 4x4 i 5x5 cali w rozdzielczości 1,5µm, opcjonalnie do 0,8µm).
- W zależności od rodzaju maski, indywidualnych potrzeb klienta, złożoności rysunku, minimalnych i maksymalnych wymiarów elementów w rysunku, powtarzalności modułów itp. maski mogą być wykonywane na urządzeniu Electromask lub DWL200.
- Możliwe jest także wykonywanie pierwszego lub kolejnych poziomów fotolitografii na dowolnym płaskim podłożu o maksymalnych wymiarach 200 x 200 x 5mm pokrytym światłoczułą emulsją. Zapewniona dokładność centrowania do 285nm w obu osiach.
Kontakt:
Piotr Grabiec,
Andrzej Sierakowski
Oferuje: Oddział Piaseczno - Zakład Technologii Mikrosystemów |
|
|
|
| Październik 2024 |
| Pon |
Wto |
Śro |
Czw |
Pią |
Sob |
Nie |
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | | 28 | 29 | 30 | 31 |
|
|
Imieniny: Rozalia, Franciszek, Konrad
|
|
|
ZAKŁADY NAUKOWE
|
|
|
|
