STRONA ARCHIWALNA
Instytut Technologii Elektronowej
hbar
Kliknij, aby otrzymac polska wersje językowa Click here for English Language O Instytucie Organizacja i dzialalnosc Projekty Europejskie Fundusze strukturalne Zamowienia_Publiczne Tu znajdziesz numer telefonu i adres poczty elektronicznej osoby, której szukasz Biuletyn Informacji Publicznej ISO 9001
hbar
   
O Instytucie
Informacja_ogolna
Historia Instytutu
Nagrody
Osiagniecia
Oferta
Materiały promocyjne
Biblioteka
Lokalizacja
StrategiaHR




PROJEKTY
Logo Pol-HEMT Logo Pol-HEMT
MNSDIAG InTechFun
Centrum Nanofotoniki
Smart Frame
NANOHEAT Logo
MINTE Logo

ITE jest członkiem:

Wytwarzanie masek
  • Projektowanie oraz współpraca z klientami przy wykonywaniu projektów średnio skomplikowanych masek przyrządów półprzewodnikowych oraz dla celów mikromechaniki.
  • Wykonywanie masek chromowych oraz fotograficznych dla technologii półprzewodnikowych oraz innych aplikacji wymagających dużej precyzji i wysokiej rozdzielczości wykonania wzoru.
  • Wykonujemy maski o wymiarach maksymalnych 8x8 cali na standardowych płytach szklanych pokrytych metalicznym chromem (standardowo wykonujemy maski 4x4 i 5x5 cali w rozdzielczości 1,5µm, opcjonalnie do 0,8µm).
  • W zależności od rodzaju maski, indywidualnych potrzeb klienta, złożoności rysunku, minimalnych i maksymalnych wymiarów elementów w rysunku, powtarzalności modułów itp. maski mogą być wykonywane na urządzeniu Electromask lub DWL200.
  • Możliwe jest także wykonywanie pierwszego lub kolejnych poziomów fotolitografii na dowolnym płaskim podłożu o maksymalnych wymiarach 200 x 200 x 5mm pokrytym światłoczułą emulsją. Zapewniona dokładność centrowania do 285nm w obu osiach.
Kontakt: Piotr Grabiec, Andrzej Sierakowski

Oferuje: Zakład Technologii Mikrosystemów i Nanostruktur Krzemowych
Grudzień 2020
Pon Wto Śro Czw Pią Sob Nie
123456
78910111213
14151617181920
21222324252627
28293031
Imieniny: Franciszek, Hilary, Ksawery

ZAKŁADY NAUKOWE
PARTNERZY
LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO