STRONA ARCHIWALNA
Instytut Technologii Elektronowej
hbar
Kliknij, aby otrzymac polska wersje językowa Click here for English Language O Instytucie Organizacja i dzialalnosc Projekty Europejskie Fundusze strukturalne Zamowienia_Publiczne Tu znajdziesz numer telefonu i adres poczty elektronicznej osoby, której szukasz Biuletyn Informacji Publicznej ISO 9001
hbar
TREŚĆ WIADOMOŚCI
NOWE OSIĄGNIĘCIA PRACOWNIKÓW ITE: Przezroczyste tranzystory MESFET na podłożach elastycznych 2015-02-12
W ramach projektu InTechFun opracowano technologię przezroczystych tranzystorów MESFET wytwarzanych na elastycznych podłożach. Przyrządy wykonano na podłożu politereftalanu etylenu (PET). Warstwę aktywną stanowi In-Ga-Zn-O (IGZO)- materiał z grupy przezroczystych amorficznych półprzewodników tlenkowych. Kontakty źródła i drenu wytworzono z tlenku indowo-cynowego. Elektrodę bramki tranzystora tworzącą złącze Schottky’ego do IGZO wykonano z amorficznego tlenku rutenowo-krzemowego. Twórcami osiągnięcia są pracownicy ITE: mgr inż. J. Kaczmarski, mgr inż.J. Grochowski, prof. E. Kamińska, mgr inż. A. Taube, prof. A. Piotrowska.

O innych osiągnięciach pracowników ITE można przeczytać na stronie Osiągnięcia.

Powrót | Archiwum wiadomości
Styczeń 2026
Pon Wto Śro Czw Pią Sob Nie
1234
567891011
12131415161718
19202122232425
262728293031
Imieniny: Piotr, Małgorzata

ZAKŁADY NAUKOWE
PARTNERZY
LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO