Instytut Technologii Elektronowej
hbar
Kliknij, aby otrzymac polska wersje językowa Click here for English Language O Instytucie Organizacja i dzialalnosc Projekty Europejskie Fundusze strukturalne Zamowienia_Publiczne Tu znajdziesz numer telefonu i adres poczty elektronicznej osoby, której szukasz Biuletyn Informacji Publicznej ISO 9001
hbar
   
O Instytucie
Informacja_ogolna
Historia Instytutu
Nagrody
Osiagniecia
Oferta
Materiały promocyjne
Biblioteka
Lokalizacja
StrategiaHR




PROJEKTY
Logo Pol-HEMT Logo Pol-HEMT
MNSDIAG InTechFun
Centrum Nanofotoniki
Smart Frame
NANOHEAT Logo
MINTE Logo

ITE jest członkiem:

Wytwarzanie masek fotolitograficznych
Oferujemy wykonywanie masek na potrzeby badawcze i do produkcji małoseryjnej na podstawie dokumentacji przygotowanej przez zamawiającego (layout, liczba warstw, kolory, wymiary krytyczne, centrowanie). Topografia powinna być przekazywana przez zamawiającego postaci pliku w formacie dxf, gdsii, cif.

Urządzenie Heidelberg DWL-200 służy do przenoszenia wzorów na różne podłoża:
  • krzemowe,
  • szklane,
  • warstwy,
  • inne materiały typu światłoczułe emulsje fotolitograficzne (czułe na długość fali 365 nm).


Urządzenie może być zastosowane do wytwarzania masek dla technologii półprzewodników oraz do wielu innych aplikacji, gdzie przenoszony wzór wymaga wysokiej precyzji oraz wysokiej rozdzielczości.

Zapewniamy doskonałą jakość oraz wysoką rozdzielczość nanoszonego wzoru. Obecnie mamy możliwość wykonywania masek chromowych o wymiarach maksymalnych 8" x 8" na standardowych płytach szklanych (typy szkieł) pokrytych metalicznym chromem (standardowo wykonujemy maski 4" x 4" i 5" x 5" w rozdzielczości 1,5 µm).
  • tolerancja centrowania (0,3 µm dla obu osi);
  • rozrzut wymiaru krytycznego dla masek chromowych przy naświetlaniu standardowej emulsji o grubości 0,5 µm (+/0,2 µm);
  • rozrzut wymiaru krytycznego dla innych podłoży przy naświetlaniu grubszych warstw emulsji (+/-0,6 µm).


TERMIN REALIZACJI: Standardowo 15 dni roboczych

WYNIK: Maski wykonane według uzgodnionego projektu są po przetestowaniu poprawności wyko- nania przekazywane do odbiorcy.

KONTAKT: Andrzej Sierakowski asierak@ite.waw.pl

Oferuje: Zakład Technologii Mikrosystemów i Nanostruktur Krzemowych
Wrzesien 2019
Pon Wto Śro Czw Pią Sob Nie
1
2345678
9101112131415
16171819202122
23242526272829
30
Imieniny: Hipolit, Mateusz, Daria

ZAKŁADY NAUKOWE
PARTNERZY
LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO LOGO